主要應用領域
Manufacturing
產品/服務
1. 低溫磊晶技術：採用物理性濺鍍，俗稱真空濺鍍，是利用電場將工作氣體解離後產生電漿，並且加速撞擊靶材後，將靶材上的材料濺射到基板上，透過適當的技術與設備，能夠產生良好的薄膜化學反應及高品質的磊晶薄膜。
2. 自我補償膜厚技術：濺鍍磊晶技術，透過電漿撞擊靶材後產生的濺射效果，使得材料噴射的角度幾乎為常數，因此透過適當的工作距離、靶材與基板的相對位置、基板的旋轉等參數，能夠在8-12吋晶圓尺寸得到均勻的薄膜厚度，晶圓中心與邊緣的薄膜厚度誤差為1%。
2. 自我補償膜厚技術：濺鍍磊晶技術，透過電漿撞擊靶材後產生的濺射效果，使得材料噴射的角度幾乎為常數，因此透過適當的工作距離、靶材與基板的相對位置、基板的旋轉等參數，能夠在8-12吋晶圓尺寸得到均勻的薄膜厚度，晶圓中心與邊緣的薄膜厚度誤差為1%。
成立年份
2017
統一編號
69727061
公司狀態
營運中
負責人
黃耀賢
團隊人數
0
實收資本額
5,000,000 (元/新臺幣)
成立年份、公司狀態、負責人、實收資本額、註冊地址均來自「經濟部商業發展署 全國商工行政服務入口網」
註冊地址
新竹市東區公道五路二段120號13樓之6
網站連結
會員專屬內容
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公司簡介
進化光學有限公司(Microluce, LTD)成立於2017年10月，透過科技部萌芽計畫輔助並且設立公司，將大學內的高端技術技轉到業界，技術成員來自國立中央大學薄膜技術中心師生，並且搭配業界高階經理人，開發濺鍍技術以及設備來製作氮化鎵低溫磊晶，目標是8-12吋的矽基氮化鎵磊晶片。根據不同的商業模式，我們也可以配合客戶做設備買賣以及開發。
