本公司專注於原子級氣相沉積技術之開發，提供新前驅物設計與專利佈局建議，新應用領域市場分析與技術服務，專利設計與授權策略分析。 亦可提供半導體等級的金屬氧化物原子級氣相沉積薄膜代工服務。